ГОСТ Р 71334-2024
Структуры эпитаксиальные. Метод измерения толщины эпитаксиальных слоев кремния в структурах типа кремний на сапфире на основе инфракрасной интерференции
Epitaxial structures. Мethod for measuring the thickness of epitaxial silicon layers in structures of the silicon-on-sapphire type based on IR interference
Основные сведения
ГОСТ Р 71334-2024
ГОСТ Р 71334-2024
Структуры эпитаксиальные. Метод измерения толщины эпитаксиальных слоев кремния в структурах типа кремний на сапфире на основе инфракрасной интерференции
Регистрация в фонде
476-ст
17.04.2024
01.03.2025
-
Поисковые образы
33.060.99
эпитаксиальные структуры, ИК-интерференция, метод измерения толщины пленки
Настоящий стандарт распространяется на эпитаксиальные структуры, применяемые для изготовления изделий электронной компонентной базы, и устанавливает метод интерференции для измерения толщины эпитаксиальных слоев в структурах кремний на сапфире (КНС)
Ссылочные данные
-
-
-
-
-
-
Сведения о разработчике
303 - Электронная компонентная база, материалы и оборудование
Акционерное общество «Российский научно-исследовательский институт «Электронстандарт» (АО «РНИИ «Электронстандарт»)
Сведения о регистрации в МГС
-
-