ГОСТ 25196-82

ГОСТ 25196-82

ГОСТ 25196-82

Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

1383

31.03.1982

01.07.1983

-

23.160

оборудование вакуумное;установки для ионной имплантации

Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники

-

-

-

-

-

-

249 - Вакуумная техника

-

-

-